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2026年CoWoS產(chǎn)能,被誰瓜分?

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2026年CoWoS產(chǎn)能,被誰瓜分?

當CoWoS成為少數(shù)巨頭的專屬資源,一個現(xiàn)實問題需要被重新考慮:除了CoWoS,還有沒有其他選擇?

文|半導體產(chǎn)業(yè)縱橫

當晶體管微縮逼近物理極限,先進封裝便成為決定芯片性能的“第二核心陣地”。

而EMIB的出現(xiàn),恰逢其時。

01 2026年CoWoS產(chǎn)能,被誰瓜分?

CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate),是AI時代名副其實的“香餑餑”。

作為臺積電在“超越摩爾定律”道路上的核心技術,Chip-on-Wafer(CoW)工藝將多個芯片(如GPU、CPU和HBM等)堆疊并鍵合到硅中介晶圓上;然后,再將CoW芯片與封裝基板(Substrate)整合,形成完整的CoWoS封裝結構。

這意味著它允許將采用5nm/3nm先進制程的GPU計算單元、專為存儲優(yōu)化的HBM芯片,以及成熟制程的I/O接口芯片整合為單一系統(tǒng)級封裝,在性能、功耗與成本間找到最佳平衡點。

在AI算力競賽中,CoWoS的高帶寬優(yōu)勢更是不可或缺。數(shù)據(jù)顯示,采用CoWoS封裝的AI芯片與HBM間的數(shù)據(jù)傳輸帶寬可達TB/s級別,較傳統(tǒng)封裝提升一個數(shù)量級,完美解決了“內(nèi)存墻”問題,成為高端AI訓練芯片的標配。

隨著ChatGPT等大模型迭代加速,全球云端AI芯片需求呈爆發(fā)式增長,全球CoWoS總需求將從2024年的37萬片,增長至2025年的67萬片,并在2026年達到100萬片,這種爆發(fā)式增長進一步加劇了產(chǎn)能缺口。

目前來看,僅少數(shù)AI芯片龍頭企業(yè)具備大規(guī)?!版i定產(chǎn)能”的實力,其余專用芯片(ASIC)廠商及二線AI芯片企業(yè),均面臨CoWoS產(chǎn)能獲取不足的困境。

日前摩根士丹利報告預測,到2026年,英偉達的CoWoS晶圓總需求量將達到59.5萬片,占全球總需求的60%。這筆龐大的訂單中,約51萬片將由臺積電承接,主要用于下一代Rubin架構芯片。據(jù)此推算,2026年英偉達芯片出貨量可達540萬顆,其中240萬顆將來自Rubin平臺。Amkor和日月光(ASE/SPIL)等外包封測廠(OSAT)也將為英偉達分擔約8萬片的CoWoS產(chǎn)能,主要用于其Vera CPU及汽車芯片等產(chǎn)品。

緊隨其后的是博通,預計需求達15萬片,占總需求的15%。其產(chǎn)能主要服務于大客戶的定制芯片(ASIC),包括為谷歌TPU預訂的9萬片(臺積電8.5萬片,日月光/矽品5千片)、為Meta預訂的5萬片,以及為OpenAI預訂的1萬片。

AMD預計將獲得10.5萬片CoWoS晶圓,占據(jù)約11%的市場份額。其中,8萬片將在臺積電生產(chǎn),用于其MI355和MI400系列AI加速器。

其他玩家包括亞馬遜、Marvell、聯(lián)發(fā)科等。其中亞馬遜通過其合作伙伴Alchip預訂了5萬片;Marvell為AWS和微軟的定制芯片預訂了5.5萬片;聯(lián)發(fā)科(MediaTek)為谷歌TPU項目預訂了2萬片。

綜合來看,上述幾大客戶已鎖定臺積電CoWoS總產(chǎn)能的85%以上,留給二線AI芯片廠商、專用ASIC企業(yè)及初創(chuàng)公司的份額不足15%。在排期普遍延后至2026年甚至更晚的背景下,產(chǎn)能稀缺已從技術瓶頸演變?yōu)槭袌鰷嗜腴T檻。

當CoWoS成為少數(shù)巨頭的專屬資源,一個現(xiàn)實問題需要被重新考慮:除了CoWoS,還有沒有其他選擇?

02 英特爾EMIB,突襲!

英特爾(Intel)的EMIB先進封裝正成為芯片企業(yè)的備選方案之一。

相較于CoWoS,EMIB擁有數(shù)項優(yōu)勢。

首先是結構簡化,EMIB舍棄昂貴且大面積的中介層,直接將芯片使用內(nèi)嵌在載板的硅橋(Bridge)方式進行互連,簡化整體結構,相對于CoWoS良率更高。

其次是熱膨脹系數(shù)(Coefficient of Thermal Expansion, CTE)問題較小,由于EMIB只在芯片邊緣嵌硅橋,整體硅比例低,因此硅與基板的接觸區(qū)域少,導致熱膨脹系數(shù)不匹配的問題較小,較不容易產(chǎn)生封裝翹曲與可靠度挑戰(zhàn)。

最后EMIB在封裝尺寸也較具優(yōu)勢,相較于CoWoS-S僅能達到3.3倍光罩尺寸、CoWoS-L目前發(fā)展至3.5倍,預計在2027年達9倍;EMIB-M已可提供6倍光罩尺寸,并預計2026到2027年可支援到8倍至12倍。價格部分,因EMIB舍棄價格高昂的中介層,能為AI客戶提供更具成本優(yōu)勢的解決方案。

然而,EMIB技術也受限于硅橋面積與布線密度,可提供的互連帶寬相對較低、訊號傳輸距離較長,并有延遲性略高的問題。

英特爾自2021年宣布設立獨立的晶圓代工服務(Intel Foundry Services, IFS)事業(yè)群,耕耘EMIB先進封裝技術多年,已應用至自家Server CPU平臺Sapphire Rapids和Granite Rapids等。

EMIB關注度提升的背后,是以谷歌為代表的ASIC方案之崛起。

據(jù)悉,Marvell美滿和聯(lián)發(fā)科已考慮將英特爾的EMIB先進封裝納入ASIC芯片設計的可選項中,谷歌也決定于2027年的TPU v9 AI芯片中導入英特爾EMIB先進封裝試用。蘋果、博通和高通也可能很快成為英特爾晶圓代工業(yè)務的客戶。三家公司招聘信息顯示,招聘封裝工程師的關鍵要求之一是掌握英特爾EMIB技術,這表明這些公司急于招聘熟悉英特爾EMIB技術的工程師,助力下一代產(chǎn)品設計。

其中蘋果以自研云端ASIC為核心方案,高通則聚焦Tier 2 AI加速卡產(chǎn)品,二者的應用場景均無需依賴CoWoS封裝;相比之下,EMIB封裝具備更優(yōu)成本效益,反而能更好適配其產(chǎn)品需求。此外,對于運算需求相對較低的ASIC推論場景,EMIB封裝同樣具備技術支持能力。

03 先進封裝,三強混戰(zhàn)

EMIB的崛起,正將先進封裝市場拖入“臺積電、英特爾、三星”的三強混戰(zhàn)。

臺積電方面,有一點需要特別注意,臺積電2026年CoWoS產(chǎn)能的大客戶大都屬于美國公司,如今美國客戶希望實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈的在美生產(chǎn),但臺積電和上下游暫無可用的在美后端產(chǎn)能。

今年中旬,市場消息稱臺積電正在大規(guī)模推進在美生產(chǎn)計劃,包括建設晶圓廠、研發(fā)中心和先進封裝設施。除芯片制造外,CoWoS等先進封裝技術是供應鏈中最關鍵的環(huán)節(jié)之一。據(jù)報道,臺積電似乎正將戰(zhàn)略重心轉向該領域,計劃2026年啟動封裝廠建設,預計將于2029年竣工投產(chǎn)。

該封裝廠將選址在亞利桑那州,臺積電已開始招募CoWoS設備服務工程師。這座先進封裝工廠將負責生產(chǎn)CoWoS及其衍生技術,以及SoIC和CoW等下一代封裝方案,這些技術將應用于英偉達Rubin系列和AMD Instinct MI400等產(chǎn)品線。根據(jù)初步規(guī)劃,亞利桑那州的封裝廠將與當?shù)鼐A廠實現(xiàn)聯(lián)動,因為SoIC等產(chǎn)品需要使用帶有中介層(interposer layer)的芯片。

三星也在趁機攪局。三星的先進封裝技術體系分為2.5D的I-Cube和3D的X-Cube兩大系列。其中X-Cube作為三星3D封裝的核心,通過TSV技術實現(xiàn)芯片垂直電氣互連,分為凸點互連和混合鍵合兩種工藝路徑。

此外,三星電子先進封裝(AVP)部門還正在主導開發(fā)“半導體3.3D先進封裝技術”,目標應用于AI半導體芯片,2026年第二季度量產(chǎn)。該技術通過安裝RDL中介層替代硅中介層來連接邏輯芯片和HBM;并通過3D堆疊技術將邏輯芯片堆疊在LLC上。三星預計,新技術商業(yè)化之后,與現(xiàn)有硅中介層相比,性能不會下降,成本可節(jié)省22%。三星還將在3.3D封裝引進“面板級封裝(PLP)”技術。

真正的變量在英特爾。今年英特爾代工大會上,英特爾公布了EMIB技術的新變體—— EMIB-T,其中T指的應是TSV硅通孔;此外還有分別采用RDL重布線層和Bridge橋片的Foveros-R、Foveros-B封裝。這一面向HBM4、UCIe芯片集成的工藝通過TSV和M Bridge技術在基板中構建垂直的電力通道,而不會像傳統(tǒng)方案一樣需要“繞路”。這意味著EMIB-T可實現(xiàn)更低的直流/交流電噪聲,有利于信號傳輸?shù)姆€(wěn)定性。

英特爾表示EMIB-T支持從其它2.5D先進封裝技術遷移,同時這一過程無需重大重新設計。對于未來的EMIB,英特爾預告其到2026年可通過超過20個EMIB橋實現(xiàn)約120mm×120mm的總封裝尺寸,集成12個HBM內(nèi)存堆棧;而到2028年,封裝尺寸將進一步擴展到120mm×180mm,HBM數(shù)量將超過24個。

全球第二大OSAT(外包封測)企業(yè)Amkor安靠在今年的英特爾代工Direct Connect大會上曾宣布與英特爾建立戰(zhàn)略合作伙伴關系,Amkor將在其多地制造工廠采用EMIB封裝工藝,為EMIB建立替代來源。據(jù)悉,Amkor決定在其韓國仁川松島K5工廠建設EMIB產(chǎn)能,這是因為此地的設備足以滿足EMIB先進封裝工藝的需求,同時現(xiàn)有的材料、零部件、人才資源豐富。

消息人士表示,Amkor韓國仁川松島K5工廠不僅將承擔英特爾產(chǎn)品部門芯片的EMIB封裝,也將為英特爾代工的外部客戶提供服務。除韓國外,Amkor的葡萄牙和美國亞利桑那州制造工廠也將導入英特爾EMIB工藝。

據(jù)Yole數(shù)據(jù),預計2025年全球先進封裝市場規(guī)模占比將首次超過傳統(tǒng)封裝,達到51%,并持續(xù)以10.6%的CAGR增長至2028年的786億美元。EMIB的崛起正在打破“一家獨大”的格局。

與此同時,EMIB的崛起并不意味著CoWoS的衰落,而是先進封裝行業(yè)邁入場景化精準匹配的新發(fā)展階段。CoWoS在互聯(lián)密度和超高頻段信號完整性上的優(yōu)勢,仍是英偉達、AMD等高端GPU廠商的核心需求,短期內(nèi)難以被替代。而EMIB則在ASIC、中端AI芯片等領域或可打開增量空間。

 
本文為轉載內(nèi)容,授權事宜請聯(lián)系原著作權人。

英特爾

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2026年CoWoS產(chǎn)能,被誰瓜分?

當CoWoS成為少數(shù)巨頭的專屬資源,一個現(xiàn)實問題需要被重新考慮:除了CoWoS,還有沒有其他選擇?

文|半導體產(chǎn)業(yè)縱橫

當晶體管微縮逼近物理極限,先進封裝便成為決定芯片性能的“第二核心陣地”。

而EMIB的出現(xiàn),恰逢其時。

01 2026年CoWoS產(chǎn)能,被誰瓜分?

CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate),是AI時代名副其實的“香餑餑”。

作為臺積電在“超越摩爾定律”道路上的核心技術,Chip-on-Wafer(CoW)工藝將多個芯片(如GPU、CPU和HBM等)堆疊并鍵合到硅中介晶圓上;然后,再將CoW芯片與封裝基板(Substrate)整合,形成完整的CoWoS封裝結構。

這意味著它允許將采用5nm/3nm先進制程的GPU計算單元、專為存儲優(yōu)化的HBM芯片,以及成熟制程的I/O接口芯片整合為單一系統(tǒng)級封裝,在性能、功耗與成本間找到最佳平衡點。

在AI算力競賽中,CoWoS的高帶寬優(yōu)勢更是不可或缺。數(shù)據(jù)顯示,采用CoWoS封裝的AI芯片與HBM間的數(shù)據(jù)傳輸帶寬可達TB/s級別,較傳統(tǒng)封裝提升一個數(shù)量級,完美解決了“內(nèi)存墻”問題,成為高端AI訓練芯片的標配。

隨著ChatGPT等大模型迭代加速,全球云端AI芯片需求呈爆發(fā)式增長,全球CoWoS總需求將從2024年的37萬片,增長至2025年的67萬片,并在2026年達到100萬片,這種爆發(fā)式增長進一步加劇了產(chǎn)能缺口。

目前來看,僅少數(shù)AI芯片龍頭企業(yè)具備大規(guī)?!版i定產(chǎn)能”的實力,其余專用芯片(ASIC)廠商及二線AI芯片企業(yè),均面臨CoWoS產(chǎn)能獲取不足的困境。

日前摩根士丹利報告預測,到2026年,英偉達的CoWoS晶圓總需求量將達到59.5萬片,占全球總需求的60%。這筆龐大的訂單中,約51萬片將由臺積電承接,主要用于下一代Rubin架構芯片。據(jù)此推算,2026年英偉達芯片出貨量可達540萬顆,其中240萬顆將來自Rubin平臺。Amkor和日月光(ASE/SPIL)等外包封測廠(OSAT)也將為英偉達分擔約8萬片的CoWoS產(chǎn)能,主要用于其Vera CPU及汽車芯片等產(chǎn)品。

緊隨其后的是博通,預計需求達15萬片,占總需求的15%。其產(chǎn)能主要服務于大客戶的定制芯片(ASIC),包括為谷歌TPU預訂的9萬片(臺積電8.5萬片,日月光/矽品5千片)、為Meta預訂的5萬片,以及為OpenAI預訂的1萬片。

AMD預計將獲得10.5萬片CoWoS晶圓,占據(jù)約11%的市場份額。其中,8萬片將在臺積電生產(chǎn),用于其MI355和MI400系列AI加速器。

其他玩家包括亞馬遜、Marvell、聯(lián)發(fā)科等。其中亞馬遜通過其合作伙伴Alchip預訂了5萬片;Marvell為AWS和微軟的定制芯片預訂了5.5萬片;聯(lián)發(fā)科(MediaTek)為谷歌TPU項目預訂了2萬片。

綜合來看,上述幾大客戶已鎖定臺積電CoWoS總產(chǎn)能的85%以上,留給二線AI芯片廠商、專用ASIC企業(yè)及初創(chuàng)公司的份額不足15%。在排期普遍延后至2026年甚至更晚的背景下,產(chǎn)能稀缺已從技術瓶頸演變?yōu)槭袌鰷嗜腴T檻。

當CoWoS成為少數(shù)巨頭的專屬資源,一個現(xiàn)實問題需要被重新考慮:除了CoWoS,還有沒有其他選擇?

02 英特爾EMIB,突襲!

英特爾(Intel)的EMIB先進封裝正成為芯片企業(yè)的備選方案之一。

相較于CoWoS,EMIB擁有數(shù)項優(yōu)勢。

首先是結構簡化,EMIB舍棄昂貴且大面積的中介層,直接將芯片使用內(nèi)嵌在載板的硅橋(Bridge)方式進行互連,簡化整體結構,相對于CoWoS良率更高。

其次是熱膨脹系數(shù)(Coefficient of Thermal Expansion, CTE)問題較小,由于EMIB只在芯片邊緣嵌硅橋,整體硅比例低,因此硅與基板的接觸區(qū)域少,導致熱膨脹系數(shù)不匹配的問題較小,較不容易產(chǎn)生封裝翹曲與可靠度挑戰(zhàn)。

最后EMIB在封裝尺寸也較具優(yōu)勢,相較于CoWoS-S僅能達到3.3倍光罩尺寸、CoWoS-L目前發(fā)展至3.5倍,預計在2027年達9倍;EMIB-M已可提供6倍光罩尺寸,并預計2026到2027年可支援到8倍至12倍。價格部分,因EMIB舍棄價格高昂的中介層,能為AI客戶提供更具成本優(yōu)勢的解決方案。

然而,EMIB技術也受限于硅橋面積與布線密度,可提供的互連帶寬相對較低、訊號傳輸距離較長,并有延遲性略高的問題。

英特爾自2021年宣布設立獨立的晶圓代工服務(Intel Foundry Services, IFS)事業(yè)群,耕耘EMIB先進封裝技術多年,已應用至自家Server CPU平臺Sapphire Rapids和Granite Rapids等。

EMIB關注度提升的背后,是以谷歌為代表的ASIC方案之崛起。

據(jù)悉,Marvell美滿和聯(lián)發(fā)科已考慮將英特爾的EMIB先進封裝納入ASIC芯片設計的可選項中,谷歌也決定于2027年的TPU v9 AI芯片中導入英特爾EMIB先進封裝試用。蘋果、博通和高通也可能很快成為英特爾晶圓代工業(yè)務的客戶。三家公司招聘信息顯示,招聘封裝工程師的關鍵要求之一是掌握英特爾EMIB技術,這表明這些公司急于招聘熟悉英特爾EMIB技術的工程師,助力下一代產(chǎn)品設計。

其中蘋果以自研云端ASIC為核心方案,高通則聚焦Tier 2 AI加速卡產(chǎn)品,二者的應用場景均無需依賴CoWoS封裝;相比之下,EMIB封裝具備更優(yōu)成本效益,反而能更好適配其產(chǎn)品需求。此外,對于運算需求相對較低的ASIC推論場景,EMIB封裝同樣具備技術支持能力。

03 先進封裝,三強混戰(zhàn)

EMIB的崛起,正將先進封裝市場拖入“臺積電、英特爾、三星”的三強混戰(zhàn)。

臺積電方面,有一點需要特別注意,臺積電2026年CoWoS產(chǎn)能的大客戶大都屬于美國公司,如今美國客戶希望實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈的在美生產(chǎn),但臺積電和上下游暫無可用的在美后端產(chǎn)能。

今年中旬,市場消息稱臺積電正在大規(guī)模推進在美生產(chǎn)計劃,包括建設晶圓廠、研發(fā)中心和先進封裝設施。除芯片制造外,CoWoS等先進封裝技術是供應鏈中最關鍵的環(huán)節(jié)之一。據(jù)報道,臺積電似乎正將戰(zhàn)略重心轉向該領域,計劃2026年啟動封裝廠建設,預計將于2029年竣工投產(chǎn)。

該封裝廠將選址在亞利桑那州,臺積電已開始招募CoWoS設備服務工程師。這座先進封裝工廠將負責生產(chǎn)CoWoS及其衍生技術,以及SoIC和CoW等下一代封裝方案,這些技術將應用于英偉達Rubin系列和AMD Instinct MI400等產(chǎn)品線。根據(jù)初步規(guī)劃,亞利桑那州的封裝廠將與當?shù)鼐A廠實現(xiàn)聯(lián)動,因為SoIC等產(chǎn)品需要使用帶有中介層(interposer layer)的芯片。

三星也在趁機攪局。三星的先進封裝技術體系分為2.5D的I-Cube和3D的X-Cube兩大系列。其中X-Cube作為三星3D封裝的核心,通過TSV技術實現(xiàn)芯片垂直電氣互連,分為凸點互連和混合鍵合兩種工藝路徑。

此外,三星電子先進封裝(AVP)部門還正在主導開發(fā)“半導體3.3D先進封裝技術”,目標應用于AI半導體芯片,2026年第二季度量產(chǎn)。該技術通過安裝RDL中介層替代硅中介層來連接邏輯芯片和HBM;并通過3D堆疊技術將邏輯芯片堆疊在LLC上。三星預計,新技術商業(yè)化之后,與現(xiàn)有硅中介層相比,性能不會下降,成本可節(jié)省22%。三星還將在3.3D封裝引進“面板級封裝(PLP)”技術。

真正的變量在英特爾。今年英特爾代工大會上,英特爾公布了EMIB技術的新變體—— EMIB-T,其中T指的應是TSV硅通孔;此外還有分別采用RDL重布線層和Bridge橋片的Foveros-R、Foveros-B封裝。這一面向HBM4、UCIe芯片集成的工藝通過TSV和M Bridge技術在基板中構建垂直的電力通道,而不會像傳統(tǒng)方案一樣需要“繞路”。這意味著EMIB-T可實現(xiàn)更低的直流/交流電噪聲,有利于信號傳輸?shù)姆€(wěn)定性。

英特爾表示EMIB-T支持從其它2.5D先進封裝技術遷移,同時這一過程無需重大重新設計。對于未來的EMIB,英特爾預告其到2026年可通過超過20個EMIB橋實現(xiàn)約120mm×120mm的總封裝尺寸,集成12個HBM內(nèi)存堆棧;而到2028年,封裝尺寸將進一步擴展到120mm×180mm,HBM數(shù)量將超過24個。

全球第二大OSAT(外包封測)企業(yè)Amkor安靠在今年的英特爾代工Direct Connect大會上曾宣布與英特爾建立戰(zhàn)略合作伙伴關系,Amkor將在其多地制造工廠采用EMIB封裝工藝,為EMIB建立替代來源。據(jù)悉,Amkor決定在其韓國仁川松島K5工廠建設EMIB產(chǎn)能,這是因為此地的設備足以滿足EMIB先進封裝工藝的需求,同時現(xiàn)有的材料、零部件、人才資源豐富。

消息人士表示,Amkor韓國仁川松島K5工廠不僅將承擔英特爾產(chǎn)品部門芯片的EMIB封裝,也將為英特爾代工的外部客戶提供服務。除韓國外,Amkor的葡萄牙和美國亞利桑那州制造工廠也將導入英特爾EMIB工藝。

據(jù)Yole數(shù)據(jù),預計2025年全球先進封裝市場規(guī)模占比將首次超過傳統(tǒng)封裝,達到51%,并持續(xù)以10.6%的CAGR增長至2028年的786億美元。EMIB的崛起正在打破“一家獨大”的格局。

與此同時,EMIB的崛起并不意味著CoWoS的衰落,而是先進封裝行業(yè)邁入場景化精準匹配的新發(fā)展階段。CoWoS在互聯(lián)密度和超高頻段信號完整性上的優(yōu)勢,仍是英偉達、AMD等高端GPU廠商的核心需求,短期內(nèi)難以被替代。而EMIB則在ASIC、中端AI芯片等領域或可打開增量空間。

 
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